Description
MKS Instruments RPS AX7695真空发生器产品详情
概述
MKS Instruments RPS AX7695是一款高性能、高可靠性的真空发生器，适用于各种工业应用。该发生器采用先进的涡轮分子泵技术，具有以下特点：
高抽速率:抽速率高达2000 L/s，可快速抽除真空腔内的气体。
低最终真空:最终真空可达10^-9 Torr，满足苛刻的真空要求。
低振动:采用低振动设计，可减少对设备的影响。
低噪音:噪音低，工作环境舒适。
易于使用:提供友好的用户界面，方便操作和维护。
产品特点
高抽速率:MKS Instruments RPS AX7695真空发生器采用高性能涡轮分子泵，抽速率高达2000 L/s，可以快速抽除真空腔内的气体，满足大容量真空腔的抽空需求。
低最终真空:该发生器的最终真空可达10^-9 Torr，适用于需要高真空度的应用，例如半导体制造、薄膜沉积和分析仪器等。
低振动:采用精密平衡设计，振动低，不会影响设备的正常运行，可用于精密仪器和设备的真空环境。
低噪音:采用低噪音设计，噪音低，工作环境舒适，可用于对噪音敏感的应用场合。
易于使用:提供友好的用户界面，操作简单方便，用户可以轻松设置和监控真空发生器的运行状态。
技术规格
型号：RPS AX7695
品牌：MKS Instruments
类型：涡轮分子泵
抽速率：2000 L/s
最终真空：10^-9 Torr
振动：<0.1µm RMS
噪音：<65 dB
工作温度：0°C至+40°C
湿度：<85%RH
尺寸：mm x mm x mm
重量：kg
功能
MKS Instruments RPS AX7695真空发生器可提供以下功能：
真空抽取:快速抽除真空腔内的气体，达到所需的真空度。
真空保持:保持真空腔内的真空度，防止真空度回升。
真空监测:监测真空腔内的真空度，并显示在用户界面上。
故障报警:当发生故障时发出报警，提示用户采取措施。
应用
MKS Instruments RPS AX7695真空发生器可应用于各种工业应用，例如：
半导体制造:用于制造半导体芯片，例如晶圆清洗、光刻、刻蚀和沉积等。
薄膜沉积:用于沉积薄膜，例如磁性薄膜、光学薄膜和介质薄膜等。
分析仪器:用于分析材料的成分和结构，例如电子显微镜、光谱仪和质谱仪等。
真空冶金:用于在真空条件下进行冶金加工，例如真空熔炼、真空淬火和真空镀膜等。
真空包装:用于在真空条件下进行食品、药品和电子元件等产品的包装。
典型应用
在半导体制造应用中，MKS Instruments RPS AX7695真空发生器可用于制造半导体芯片。该发生器可以快速抽除晶圆表面的气体，为后续的工艺步骤提供良好的真空环境，确保芯片的质量和良率。
在薄膜沉积应用中，MKS Instruments RPS AX7695真空发生器可用于沉积薄膜。该发生器可以提供高真空度，确保薄膜的均匀性和致密性。
在分析仪器应用中，MKS Instruments RPS AX7695真空发生器可用于分析材料的成分和结构。该发生器可以提供高真空度，减少样品表面吸附气体的干扰，提高分析结果的准确性。
在真空冶金应用中，MKS Instruments RPS AX7695真空发生器可用于在真空条件下进行冶金加工。该发生器可以防止金属材料在加热过程中氧化，提高材料的纯度和性能。
在真空包装应用中，MKS Instruments RPS AX7695真空发生山西润盛进出口有限公司
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